Gerätetechnik

 
FEI Scios

DualBeam FEI Scios

  • REM-FIB Gerät für 3-dim. Untersuchungen
  • EDAX-Analytik mit EDX, WDX und EBSD für chemische Analysen und kristallographische Untersuchungen
  • in-situ Zug-Druckprüfung bis 5kN
  • in-situ Heiztisch bis 1000°C
 
FEI XL30

Rasterelektronenmikroskop FEI XL30

  • FEG-Kathoden REM
  • EDAX-Analytik mit EDX und EBSD für chemische Analysen und kristallographische Untersuchungen
 
Rasterelektronenmikrosop

Rasterelektronenmikroskop Zeiss EVO 15

  • Rasterelektronenmikroskop mit EDX zur Materialcharakterisierung
 
 Sputteranlage Quorum Q150T ES

 

Sputteranlage Quorum Q150T ES

  • Sputteranlage zur REM-Präparation nicht-leitfähiger Proben
  • Targetmaterialien: Chrom, Platin, Tantal, Titan
  • Gas: Argon
 
 Sputteranlage Emitech K550

 

Sputteranlage Emitech K550

  • Sputteranlage zur REM-Präparation nicht-leitfähiger Proben
  • Targetmaterial: Gold
  • Gas: Argon
 
Mikrohärtprüfer Buehler VH3300

Automatischer Mikrohärteprüfer Buehler VH3300

  • Mikrohärteprüfung nach Vickers
  • automatischer Wechselrevolver, Vergrößerungen: 5fach bis 200fach
  • 4-fach Probenspannvorrichtung (Probendurchmesser: 20/30 mm)
  • Messbereich: HV0,01 - HV5
  • Auswertesoftware: DiaMet
 

ELMA 1

ELMA 2

Experimentelles Labor für Materialanalyseverfahren

  • Neu- und Weiterentwicklung von mikroskopischen und materialanalytischen Verfahren
  • Entwicklung und Test von Röntgenquellen für Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA)
  • abbildende Röntgenverfahren
  • Röntgenspektroskopie

Letzte Änderung: 10.04.2025 -
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